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集成电路制作 meaning in Chinese

ic fabrication

Examples

  1. In early ic fabrication practice, etch bias was usually dealt with by introducing an appropriate amount of compensation in the masking layer .
    在早期的集成电路制作实践中,刻蚀偏差通常是通过在掩膜层上引入一个适量的修正来处理的。

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